V型石墨舟皿憑借其共同的V型槽結(jié)構(gòu)、耐高溫性、化學慵懶和精密加工能力，在多個高端制作范疇發(fā)揮關(guān)鍵作用，以下是其主要用途的詳細闡明：
1.硬質(zhì)合金燒結(jié)：高精度支撐與形變操控
段差圓棒/管燒結(jié)
軸心精度保證：V型槽經(jīng)過斜面限位，保證燒結(jié)過程中硬質(zhì)合金段差圓棒/管的軸心差錯≤0.01mm，滿意切削刀具、礦山工具等對同心度的苛刻要求。
滲碳防護：槽內(nèi)涂覆氮化硼等涂料層，阻斷碳浸透，防止硬質(zhì)合金滲碳導致的硬度下降（滲碳層硬度下降約15%-20%），進步產(chǎn)品耐磨性。
長條薄片產(chǎn)品燒結(jié)
翹曲抑制：W型雙向斜槽規(guī)劃使產(chǎn)品受熱均勻，溫差波動≤3℃，結(jié)合排氣通槽消除局部氣壓，將翹曲變形率從傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)的5%降至0.5%以下。
邊角維護：棱角維護槽將產(chǎn)品與銳邊觸摸轉(zhuǎn)為平面觸摸，邊角破損率從5.2%降至0.8%，明顯進步良品率。
2.金屬粉末冶金：成分穩(wěn)定與高效熔滲
釹鐵硼磁體燒結(jié)
稀土元素維護：在氫氣氛圍中，石墨的化學慵懶防止釹、鋱等稀土元素氧化，保證磁體剩磁Br≥1.3T，矯頑力Hcj≥2000kA/m，滿意新能源汽車電機、風力發(fā)電機等高性能需求。
均勻縮短：V型槽限位使磁體燒結(jié)縮短率差錯≤0.5%，削減后續(xù)加工余量，下降資料浪費。
鎳基高溫合金熔滲
鋁硅熔體均勻浸透：石墨坩堝耐高溫且不與鎳基合金反應，保證鋁硅熔體均勻浸透，使渦輪盤耐溫性進步150℃，壽數(shù)延長3倍，使用于航空發(fā)動機、燃氣輪機等極端環(huán)境。
3.半導體制作：潔凈傳輸與精準定位
晶圓傳輸體系
高潔凈度：在12英寸晶圓ALD（原子層堆積）設備中，V型石墨舟皿滿意NAS 1638 Class 3級潔凈度規(guī)范（每立方米>0.5μm顆粒<1000個），防止顆粒污染晶圓外表。
精準定位：經(jīng)過V型槽與晶圓邊緣的斜面觸摸，定位精度差錯≤±0.005mm，保證光刻、蝕刻等工藝的重復性。
外延片成長
均勻?qū)幔簾釋矢哌_120W/(m·K)，使外延層厚度波動<±1%，滿意LED芯片、功率半導體等對摻雜均勻性的要求。
4.光伏產(chǎn)業(yè)：高效鍍膜與低碎片率
太陽能電池片鍍膜
PECVD工藝適配：在等離子體增強化學氣相堆積中，V型石墨舟皿耐受800℃高溫，外表溫差<±2℃，防止電池片因熱應力彎曲。
碎片率操控：經(jīng)過優(yōu)化槽型規(guī)劃，碎片率從0.5%降至0.02%，單線日產(chǎn)能打破7000片，明顯下降生產(chǎn)成本。
PERC電池背鈍化
均勻堆積：V型槽保證鋁背場厚度均勻性>95%，進步電池轉(zhuǎn)化功率0.3%-0.5%。
5.特殊資料處理：極端環(huán)境適應性
核燃料包殼管燒結(jié)
耐輻照性：石墨資料在輻照環(huán)境下結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，保證鋯合金包殼管燒結(jié)過程中不發(fā)生變形或裂紋，滿意核電站安全要求。
高溫強度：在慵懶氣氛中耐受2800℃高溫，支撐碳化硅纖維復合資料等新型核資料的燒結(jié)。
陶瓷基復合資料制備
低熱膨脹匹配：熱膨脹系數(shù)與陶瓷資料挨近，防止燒結(jié)過程中因熱應力導致的開裂，進步CMC部件的可靠性。
6. 科研與定制化使用：靈活性與可擴展性
異形件燒結(jié)
模塊化規(guī)劃：經(jīng)過替換不同標準石墨片，可燒結(jié)最小截面5mm×5mm的異形硬質(zhì)合金件，無需替換舟皿本體，下降研制成本40%。
3D打印兼容：結(jié)合3D打印技能，可快速定制雜亂槽型，滿意個性化需求。
梯度資料制備
多層石墨片疊加：經(jīng)過操控不同石墨片的厚度和位置，實現(xiàn)資料成分梯度散布，用于制備功用梯度資料，如航天器熱防護體系。